语言选择
产品中心

主营业务

Main business

Position:
首页
>
>
化学气相沉积设备
案例名称

化学气相沉积设备

PECVD 是借助微波或射频的方法将目标气体进行电离,在局部形成化学活性很强的等离子体,利用等离子体的活性来促进化学反应在较低的温度下进行,从而在基片上沉积出所期望的薄膜。
上一页
1

联系我们

  • 微信公众号 关注我们

©芯源科创(北京)电子科技有限公司  版权所有   京ICP备2022005763号-1  SEO标签