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案例名称

刻蚀设备

刻蚀是半导体晶圆制造中的关键步骤，在半导体制造中重要性凸显。
案例名称

化学气相沉积设备

PECVD 是借助微波或射频的方法将目标气体进行电离，在局部形成化学活性很强的等离子体，利用等离子体的活性来促进化学反应在较低的温度下进行，从而在基片上沉积出所期望的薄膜。
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